ALN セラミックパッド
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ALN セラミックパッド

AlNセラミックシートの熱伝導率は180W/m·Kで、これはアルミナセラミックの7~10倍に相当します。優れた機械的特性、良好な加工性、高い寸法精度、滑らかな表面、微細なクラックのない状態、曲げ強度なども備えています。また、誘電率と誘電損失が低く、信頼性の高い電気絶縁性能を有しています。無毒であり、1800℃耐熱性、耐酸化性、耐薬品性にも優れ、シリコンと同じ熱膨張係数を持ち、吸湿性がなく、高温・高湿度条件下でも安定した性能を発揮します。マイクロエレクトロニクス機器の急速な発展に伴い、高い熱伝導率を持つAlNセラミックチップは、基板材料やパッケージング材料として広く評価され、活用されています。
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カテゴリ:

熱伝導セラミックシート / 放熱シンク

キーワード: ALN セラミックパッド

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製品の機能

  • 高い熱伝導率、高電圧絶縁
  • 高温・高湿耐性
  • 良好な機械的特性、高い曲げ強度
  • 低誘電率、効果的な電子信号干渉防止

 

一般的なアプリケーション

  • 光電子通信デバイス
  • 高周波マイクロ波応用装置
  • 自動車用電子モジュール
  • 航空宇宙軍事電子機器の応用
  • LED / 高出力モジュール

 

テスト項目 ユニット 窒化アルミニウム Lt1800 テスト基準
- ライトシアン -
密度 g/cm³ 3.33 GB/T 2413
熱伝導率(20°C) W/m·K 180 ISO 22007-2
誘電率 1MHz 8~10 GB/T 5594.4
誘電強度 KV/mm ≥15 GB/T 5593
曲げ強さ MPa ≥300 GB/T 5593
ワープ ≤2  
表面粗さ μm 0.3~0.8 GB/T 6062
水分吸収率 % 0 GB/T 3299
体積抵抗率(20°C) Ω・cm ≥10¹⁴ GB/T 5594.5
熱膨張係数 106°C⁻¹(20~300°C)

10–6 °C⁻¹ (300–800 °C)
2.0~3.0

2.5~3.5
GB/T5594.3

 

寸法(mm) 厚さ(mm) 0.385 0.5 0.635 0.75 1
長さ × 幅 (mm) 50.8 × 50.8 / 76 × 76 / 101.6 × 101.6 / 114.3 × 114.3 / 127 × 127 / 140 × 190

顧客の実際のニーズに応じて、通常とは異なるサイズや形状にカスタマイズ可能です。

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